Mesoskalige Simulation des Schichtwachstums

© Foto Fraunhofer IWM

Rasterkraftmikroskopaufnahmen von oberflächentopographienpolierten Substraten vor (oben) und nach der Beschichtung (6 µm Schichtdicke, unten).

Die Entwicklung der Oberflächenstruktur im Depositionsprozess und der Einfluss der Abscheidungsbedingungen auf die Strukturentwicklung werden mit Hilfe mesoskopischer Wachstumsmodelle untersucht. Durch die Simulation der Wechselwirkung von Deposition und Materialtransport auf der Oberfläche kann die Entstehung der Oberflächenstrukturen im Computer nachgebildet und in einer Detailliertheit untersucht werden, welche experimentell nicht möglich ist.