Schichtwachstumsprozesse

© Foto Fraunhofer IWM

Die raue Schicht im Vordergrund wurde mit 4000 Kohlenstoffatomen beschossen. Die geglättete Schicht ist im Hintergrund zu sehen.

Die optimale Auslegung von Beschichtungsprozessen wird immer noch durch die Notwendigkeit einer großen Anzahl von Vorversuchen erschwert. Die Simulation hilft hier das Prozessfenster drastisch einzuschränken, indem sie die relevanten mikroskopischen Mechanismen identifiziert, die zu einer gewünschten Mikrostruktur oder Topographie führen.